2月23日消息，近日，Intel更新了18A工艺的信息，表示其18A工艺（1.8nm）已经为首批客户项目做好准备，并计划在2025年上半年开始流片。

有市场人士声称，Intel的18A工艺将是世界上首个小于2nm的工艺，这也使得台积电的工艺技术落后Intel一年。

Intel 18A除了SRAM密度可以赶上台积电，每瓦性能提高15%，芯片密度比至强6系列处理器采用的Intel 3工艺提高了30%。

同时Intel结合了GAA晶体管架构，另外还引入了PowerVia背部供电技术，这0也是Intel解决处理器逻辑区域电压下降和干扰的首选方法。

相比之下，台积电计划在2025年底开始量产2nm N2制程，首批消费级产品预计在2026年中推出。

Intel计划将18A制程应用于即将推出的Panther Lake笔记本处理器和Clearwater Forest服务器CPU，这两款产品预计将在年底前上市。