众所周知，目前美国一直在打压中国的芯片产业，从逻辑芯片到NAND、DRAM存储芯片，再到AI芯片等等。

美国限制先进的AI芯片，先进的半导体设备，以及一些先进的软件、技术等进入中国市场。在美国看来，只要堵住这些设备、技术、软件，中国就不可能用手搓出芯片来。

而其中，最最关键的设备，就是EUV光刻机。

因为目前所有芯片的大规模生产技术，就是光刻工艺，光刻机必不可少。且基于当前的技术工艺流程，制造7nm以下的芯片，就必须用到EUV光刻机。

而全球只有ASML一家企业，能够制造EUV光刻机，所以美国一直不允许ASML将EUV光刻机卖给中国。

甚至不准EUV光刻机，以任何形式进入中国，哪怕是其它国家的芯片厂，在中国设立的芯片制造工厂，也不允许进口EUV光刻机，真正的严防死守。

说实话，在当前的技术条件之下，美国堵EUV光刻机，确实是最好的办法，因为只要卡住EUV，进入7nm以下就别想了，没有其它任何捷径可走，也不存在弯道超车。

但是，在这样极端的情况之下，也让我们看到一个希望，那就是只要我们研发出EUV光刻机，芯片禁令成废纸，芯片战争彻底结束。

因为一旦我们拥有了EUV光刻机，那么就可以进入7nm以下了，比如5nm、3nm等，虽然还是需要其它设备的配合，但其它设备的通用性更强一点，可替代性也更强，只有EUV光刻机无可替代。

所以只要拥有EUV光刻机，禁令就没有意义了，不依赖进口这些先进设备，我们就能够生产出7nm以下的芯片，芯片战争就会结束。

那么我们离EUV光刻机还有多远？

表面上来看，还有两步，因为我们已经拥有了DUV光刻机，进一步就是浸润式DUV光刻机，再进一步就是EUV光刻机。

但在这两步背后，可能是无数步，因为EUV确实复杂，牵涉到的供应链、元件、技术非常多多且杂，但按照ASML的估计，如果美国一直卡住，也许中国几年之内就可以研发出来。

近日，在“2024黑龙江省高校和科研院所职工科技创新成果转化大赛决赛”上，哈工大的研发团队的“放电等离子体极紫外（EUV）光刻光源”项目获得大赛一等奖，说明我们在EUV光源上，其实已经有很深的积累了。