众所周知， 目前全球大规模制造芯片的技术，还是光刻技术。

所以光刻机是至关重要的，而ASML靠着垄断EUV光刻机，以及浸润式DUV光刻机，卡着全球几乎所有晶圆厂的脖子。

而美国则控制着ASML的光刻机销售，双方形成联盟后，可以说控制住了全球的芯片制造产业，特别是先进芯片制造产业。

毕竟只要ASML不卖EUV光刻机给对方，对方就无法制造出7nm以下的芯片，目前EUV光刻机，全球仅ASML一家能够制造，没有替代品。

而中国的芯片厂，一直想买EUV光刻机，但美国一直不准ASML卖给中国，中国能够买到的，只有浸润式DUV，后来更是连先进的浸润式DUV销售，都需要许可证了……

这对于中国芯片产业的发展，特别是进入先进工艺，造成了巨大影响。

近日，ASML CEO Christophe Fouquet（富凯）接受了媒体NRC的专访，在采访中，他表示，因为美国禁止EUV光刻机卖给中国，这导致中国芯片制造技术仍落后西方10-15年。

很多人觉得他的说法有点夸张了，但其实还真没夸张。

我们知道在2019年前，中芯其实是找ASML订购了一台EUV的，当时ASML接单了，但后来因为美国的限制，这台EUV无法交付。

而中芯如果拿到这台EUV，在梁孟松和团队的努力之下，不说和台积电一样明年进入2nm，估计进入3nm应该是问题不大的。

但因为没有EUV，所以进入不了5nm，至于目前具体的工艺是多少，对外公布是2019年实现了FinFET的14nm，但后续就保密，不再公布了。

如果从公开的14nm工艺算起，再来对比台积电明年的2nm，那确实是落后了10-15年，这个差距，大家还是能够感得到的。至于暗地里，差距有多大，这个就不得而知了，或许会小一些，但差距肯定是存在的，并且很大。

可见，EUV光刻机，确实是阻挡了中国芯片技术的进步了，如果我们自己有EUV光刻机，那么这个差距还会存在么？肯定不会了。

所以，接下来国产光刻机真的要发力了，先攻克浸润式DUV，再攻克EUV，只要攻克了EUV，那么美国针对中国芯片产业的一切卡脖子，都将成为历史了，那时候中国芯片产业的脖子，粗到美国卡也卡不住了，甚至我们还可以利用规模优势来反卡美国。