虽然有什么NIL纳米压印技术、又有什么BLE电子束技术，但是，目前在芯片的大规模制造中，全部是采用光刻技术。

而在芯片制造的光刻技术中，最重要的就是光刻机，没有替代品。

全球光刻机市场，主要掌握在三家厂商手中，分别是荷兰的ASML，一家占到85%的份额，另外两家是日本的尼康、佳能，这两家占了15%左右的份额。

中国大陆也有一家光刻机厂商，那就是上海微电子，不过份额几乎可以忽略，接近无零。上海微电子对外公开的光刻机，还停留在90nm，技术相对落后，另外就是上海微电子的光刻机，很多用于后道工序，也就是封测这一块，前道制造上，应用的少。

所以，美国就联手日本、荷兰，对光刻机进行封堵，不准EUV光刻机卖给中国，后来更是不准高端的浸润式DUV光刻机卖给中国，为的就是限制中国芯片制造产业的发展。

近日，美国更是改动了史上最大规模的制裁，140家企业，24种设备，3种软件，还有HBM内存，全部进行制裁。

在这样的情况之下，我们有什么办法来破局？我觉得只有研发出EUV光刻机，那么一切禁令都成废纸，没有任何意义了。

一旦我们拥有了EUV光刻机，那么就意味着我们自己能够制造5nm及以下的芯片了，那么美国限制先进的芯片，设备等卖到中国来，就相当于自我放弃了中国这个最大的市场。

如果我们研发不出EUV光刻机，而ASML的EUV光刻机我们买不到，就代表着我们就无法制造5nm及以下的芯片，那么我们就有求于美国，美国就能够一直用禁令来卡我们，限制我们。

那么，我们什么时候才能研发出EUV光刻机？时间可能并不会太短。

前段时间，国内曝光了一台光刻机，采用193nm波长的光源，分辨率是小于等于65nm，套刻精度是小于等于8nm，这台光刻机，实际上还是DUV光刻机，还不能算是浸润式。

之后还要进入浸润式光刻机，然后再进行EUV光刻机，还需要进步至少两代才行，所以难度还是有点大的，但我们没有退路，必须研发出来才行。