全球目前仅一家企业，能够制造EUV光刻机，那就是荷兰的ASML。

而目前全球的芯片规模制造工艺，都是采用光刻工艺，所以进入7nm以下时，必须用到EUV光刻机，这就很明显了，EUV光刻机，已经是决定晶圆厂，能不能进入7nm以下的关键设备了。

所以美国早就禁止ASML将EUV光刻机，卖到中国市场来，美国害怕中国制造出7nm以下的芯片了。

前段时间有大佬说ASML的EUV光刻机，研发了20年，花了1500亿。可能很多人就奇怪了，为何EUV光刻机只有ASML一家能制造？那我们花20年，1500亿，能不能研发出来？

事实上，EUV光刻机的垄断，并不整整只是技术性的，有很多方面的原因。

EUV光刻机其实并不是ASML研发出来的，实际上是美国的厂商们，联手研发出来的。

当时在进入浸润式DUV之后，193nm波长的光源，经水折射变成134nm后，光刻机厂商们，不知道道路往哪走了，不知道继续研发这种折射，还是采用更短波长的光源。

于是在1996年，当时芯片领域大佬英特尔出现，联合了美国几家芯片厂，还有几个国家实验室，研发EUV光刻机，觉得下一步应该从13.5nm的极紫外线入手。

当时英特尔是芯片霸主，地位很超然，根本就不愁钱，拿出了数十亿美元，然后和这些实验室们，大约花了4年时间，把EUV光刻机研发了出来，不过不是规模生产，只是搞出了一个模型，但这个模型从理论研究，到论证，基本上都跑通了一遍。

而在制造时，英特尔又不想搞了，觉得自己是芯片企业，才不搞光刻机呢，还是交给其它企业去干吧，于是就找到了ASML，让ASML来制造，将全套技术交给了ASML。

不过，也不是白给的，交给ASML之后，英特尔入股了ASML，还拉上台积电、三星一起入股ASML,一方面是为了保证资金，二是为了让ASML不脱离掌控，三是让ASML的光刻机有客户。

而ASML拿到英特尔给的方案后，实际上也花了10多年，直到2013年左右，才生产出第一台EUV光刻机。

所以从研发到实际生产，从美国intel到荷兰ASML，一共花了18年左右时间，至于具体花了多少钱，并没有对外公开，机构猜测，应该是超过了1000亿元。

ASML推出了EUV光刻机，因为其诞生的原因很复杂，所以优先是考虑三大晶圆厂，然后还要考虑美国的利益。

后来ASML更是联手了美国的一些财团，将整个EUV光刻机产业链，联合到了一起，捆绑成一个大集体了，比如蔡司等。

所以，后来的企业，要想研发出EUV光刻机，就更加困难了，不仅仅要搞定技术，还相当于要重组产业链，原有的产业链，已经被ASML绑定了。

这也是为何佳能等企业，研发5nm以下芯片制造工具时，基本不研发EUV，而是选择NIL、DSA等技术的原因，因为重建产业链，远比EUV研发更复杂。

ASML的EUV光刻机，其实是美国掌握整个芯片产业的工具，地位超然，美国一定程度上也会想方设法阻挠其它企业研发出来。