近日，全球光刻机巨头佳能正式宣布，自己已向美国德克萨斯州的半导体联盟——德克萨斯电子研究所 （TIE），出货了一台最新的纳米压印光刻 （NIL） 系统FPA-1200NZ2C，引发全球关注。

为何这台FPA-1200NZ2C会引发大家的关注呢？原因在于它是佳能去年发布的，一台可用于5nm芯片工艺的设备，使用它，可以不用EUV光刻机，即可制造5nm芯片。

要知道，在它诞生之前，所有5nm的芯片，都必然使用EUV光刻机，但全球又只有ASML一家能生产EUV光刻机。

而佳能的NIL设备诞生后，给大家展示了另外一条制造5nm芯片的路，那就是纳米压印，这完全是换道超车了，自然引发大家关注。

事实上，对比EUV光刻机，这种纳米压印机，也是有很多优势的，比如其售价只有EUV光刻机的十分之一左右，全套纳米压印生产线，相比于EUV光刻生产线，成本低了40-50%。

当然，纳米压印也有缺点，那就是一套NIL生产线的产量，和EUV相比，低很多，在超大规模的芯片制造中，还是有很大的提升空间，不如EUV效率高。

另外就是，使用纳米压印技术时，全套生产设备，都不能与EUV光刻设备配套，生产线的设备，全部要重新更换，这对于一些拥有EUV生产线的芯片厂而言，很难接受，毕竟抛弃掉一种，全部替代，不太可能。

但很明显，这样的NIL，对中国芯片厂而言，就有巨大的诱惑了。

一方面是成本低，二是EUV之外的第二条路，毕竟ASML的EUV光刻机我们买不到啊。

另外缺点方面，也不是大缺点，我们不需要超大的5nm芯片生产产能，同时我们也没有EUV光刻生产线，反正都是从0开始建，直接建立NIL生产线，成本又低一些，何乐而不为呢？

其实，之前佳能就有想法，这样的设备生产出来后，可以卖给中国的。

但后来美国针对中国半导体产业，实施了各种禁令，日本、荷兰也跟进，导致佳能的这种设备，就无法出货给中国了，这真的是遗憾。

因为除了中国之外，佳能找不到更合适的，大量需要NIL设备的国家或地区了，毕竟另外能够制造5nm芯片的intel、台积电、三星都有大量的EUV生产线，切换成NIL生产线，几乎不可能。